原标题：拓荆科技拟登科创板：净亏损收窄，拟投逾6亿元加码研发
拓荆科技股份有限公司（以下简称“拓荆科技”或“公司”）的首发股票招股说明书（申报稿）近日获证监会受理，公司拟于科创板公开发行不超过3161.98万股，预计募集资金逾10.00亿元，招商证券为其保荐机构。
拓荆科技拟将募集资金用于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目和补充流动资金。公司选择的上市标准为“预计市值不低于人民币30亿元，且最近一年营业收入不低于人民币3亿元”。
2018年至2021年一季度，拓荆科技持续亏损，但随着营收增长亏损有所收窄。风险方面，公司客户集中度较高，议价能力或受压制。
无控股股东及实控人，多家上市公司直接或间接参股
截至2021年7月10日，拓荆科技单个股东持有或控制的股份数量均未超过公司总股本的30%，无法形成控股，使得公司无控股股东及实际控制人。公司的第一大股东国家集成电路基金持有公司26.4833%的股权，主营业务为股权投资及投资咨询，与公司主营业务无关联。
此外，中国人寿、中微公司、立霸股份等上市公司直接持股或通过持股的投资平台间接参股拓荆科技。
图1：本次发行前拓荆科技前十名股东情况值得关注的是，根据北京中企华资产评估有限责任公司出具的资产评估报告，截至2021年一季度末，公司每股公允价值为24.50元/股，本次发行前公司总股本为9,485.8997万股，折算得公司估值约为23.24亿元。然而根据公司选择的上市标准，其预计市值需不低于人民币30亿元，公司或需对此做进一步说明。
营收增势明显，净亏损持续收窄
拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。
2018年至2020年，拓荆科技的营收自7064.40万元上升至43562.77万元，复合增长率为148.32%。
图2：2018年至2021年一季度拓荆科技营收、归母净利润和扣非归母净利润拓荆科技的营收增幅高于同期行业整体销售增速。根据SEMI数据，2018年至2020年，中国大陆半导体设备销售额自128亿美元增长至187.2亿美元，年复合增长率为20.93%。招股书显示，随着长江存储、华虹半导体、中芯南方等国内晶圆厂计划扩产，半导体设备的未来发展空间较大。
PECVD设备是公司的主要营收增长点。2018年至2020年，该设备贡献的收入分别为5170.28万元、24772.45万元和41824.53万元，年复合增长率为184.42%。销售数量分别为4台、19台和31台，且销售单价自1292.57万元/台增长至1349.18万元/台。
2018年至2020年，拓荆科技持续亏损但有所收窄。截至2020年末，公司未弥补亏损为2.55亿元。2021年一季度末，通过整体变更设立股份公司净资产折股，累计未弥补亏损减少2.81亿元，期末未分配利润为1617.61万元。
报告期间，公司主要产品PECVD设备的毛利率分别为29.25%、31.99%和35.49%，呈上升趋势，主要系该产品售价上升和采购价格总体下降。
此外，公司的研发费用率下滑明显，但仍远高于同行可比公司平均水平。公司研发费用分别为10797.31万元、7431.87万元和12278.18万元，研发费用率分别为152.84%、29.58%和28.19%，研发费用率降低主要系营收规模的增长。另一方面，公司销售费用率随收入规模扩大而下滑，但仍高于行业平均水平。根据招股书，预计产品质保金是销售费用的重要组成部分，该项费用的计提主要根据以前年度实际维护支出的历史经验数据，且公司的计提比例在同行业中处于较高水平。一定程度上表明，公司以前年度发生的产品维护支出较大。
图3：2018年至2020年拓荆科技研发费用率和销售费用率与行业均值对比客户集中度较高，拟募资逾6亿元主加码研发
拓荆科技客户集中度较高，一定程度上可能影响其议价能力。2018年至2021年一季度，公司向其前五大客户的销售金额分别为6629.86万元、20813.90万元、35922.51万元和5294.30万元，持续占当期主营收入逾八成。其中，中芯国际、华虹集团和长江存储保持为公司各期的前五名客户。招股书显示，近三年，公司前五大客户集中度高于同行可比公司均值。
2021年第一季度，公司主要产品PECVD设备的销售单价较2020年产品均价下降1.9%至1323.57万元/台，产品毛利率较2020年下降8.42个百分点至27.07%。公司称对其当季度第一大客户长江存储的集中采购做了价格让步。
根据招股书，拓荆科技首发拟募资逾10亿元，其中逾六亿元将用于PECVD设备、ALD设备等产品的研发。目前，募投项目均已通过项目备案。
图4：募集资金投资方向与使用安排先进半导体设备的技术研发与改进项目的主要研发内容包括28nm-10nm制程PECVD设备的多种工艺型号开发、10nm以下制程PECVD设备及UV Cure系统设备，项目建设期为36个月。
ALD设备研发与产业化项目拟开发面向28nm-10nm制程的ALD设备的多种工艺机型以丰富公司ALD设备的产品线，从而满足晶圆制造客户不同工序的设备需求，项目建设期为36个月。
图5：目前拓荆科技PECVD设备和ALD设备情况此外，拓荆科技拟将近四成募资款用于补充流动资金。2018年至2021年一季度，公司偿债能力指标整体优于行业均值。截至2021年一季度末，公司持有货币资金9.2亿元且无短期借款及长期借款。公司称补充的流动资金将用于支撑其研发投入和业务扩张。
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