【TechWeb】4月12日消息，据国外媒体报道，芯片巨头英特尔投资30亿美元扩建其位于美国俄勒冈州的D1X工厂。
据悉，扩建将增加27万平方英尺的生产面积，进一步扩大生产，在剪彩仪式上，英特尔首席执行官Pat Gelsinger强调了公司在俄勒冈州的积极影响，并重申了公司致力于美国在半导体研发领域的领导地位。
据介绍，升级后的D1X工厂将带来新的洁净室空间(一种特殊的晶圆和芯片处理空间，可在其环境中维持极低的空气颗粒物含量)，并着重开发尖端EUV光刻技术。
另外，他还表示，俄勒冈州希尔斯伯勒一直是英特尔(Intel)历史悠久的全球半导体研发基地，为纪念戈登 · 摩尔(Gordon Moore)的遗产，英特尔宣布将这个占地近500英亩的园区重新更名为“Ronler Acres的戈登 · 摩尔公园”。
此外，为重获芯片行业领先地位，Pat Gelsinger此前还承诺，该公司将投资800亿美元在亚利桑那州和俄亥俄州以及德国建立新工厂，并将在芯片研究上再投资数十亿美元。
