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运营商财经 康钊/文
近日，华为的一项专利被曝光，业内惊讶地发现，这实际上是一种EUV光刻技术，这似乎意味着华为居然在研发EUV光刻技术，但实际不是那么回事。
华为最近被曝光的光刻技术专利并非现在申请的，而是2016年已经在国际上申请PCT专利申请，名称是光刻设备和光刻系统。2020年，此事就已经曝光过一回，没想到最近又有人拿来炒一回，实际上是旧闻了。
而且，2016年的时候美国还没开始打压华为，说明华为很有眼光，早就看出光刻机是中国芯片的短板，因为自己也着手研发。
中国企业研究光刻技术并不稀奇，中国上世纪60年代就曾布局光刻机技术，1961年我国就启动了集成电路课题研究组，专攻晶体集成电路的技术。1966年，中国第一台光刻机研制成功，可以生产硅圆片。
1972年，武汉三厂编拟工业生产指南“光刻掩版制造“。
1977年，中国科学院化学研究所光致抗蚀剂研究小组编制《光刻胶》作为行业资料。
1980年，清华大学研制成功的第四代光刻机，精度达到3微米，接近国际主流光刻机水平。
华为光有这么点光刻技术专利是远远不够的，光刻机就认为有10万个零部件，比登天还难。
据介绍，华为的这项专利发明的核心内容，是提供了一种反射镜、光刻装置及其控制方法，能够解决相干光icon因形成固定的干涉图样而无法匀光的问题，
而且，华为研制的光刻设备可以在不改变光刻设备与基板的相对位置的情况下制备所需的图案，从而避免了平移步骤和对准步骤，从而提高了处理效率以及在基板上的形成。
但这还只是原理，离实际制造光刻机还是相差太远了。
大家不要炒作华为在研发光刻技术，这个事情还早着呢，也需要国内产业界共同携手才行。华为早在2016年就申请过专利，如果这种专利就能做出高端光刻机来，那中国现在也就不缺高端光刻机了。光刻机非常复杂，一两个专利也没啥用。
